[자연과학][실험레포트] TFT 공정

목차
서론본론결론실험목적
실험 이론Auto CAD
Photolithography Process
Cell Process실험결과 및 고찰
서론
▶ 실험 목적
Auto CAD 프로그램으로 자신이 직접 디자인한 Mask를 그려본다.
장비를 이용하여 포통공정과 셀공정에 대해 배우고, 직접 장비를 사용하여 익혀본다.
▶ 실험 이론
우리가 실험에서 쓰인 TN N/W mode에 대해서 간단히 설명하였다.
Cell 구조
TN LCD 동작 원리
초기 분자 배향배향 상태 변화광투과율 변화표시 소자 응용 외력 (전기장)
TN mode의 장점 : 높은 개구율 및 투과율, 양산 잡음에 둔감
TN mode의 단점 : 잔류 retardation이 존재, 느린 응답속도
본론
▶ Auto CAD
기본 사용
Mirror(대칭) : 대칭축을 따라 mask를 대칭 시켜준다.
Trim(자르기) : 겹쳐있는 선들에서 원하는 곳 을 자를 수 있다.
explode(분해) : 합쳐져 있는 객체를 분해 시켜준다.
pedit 명령 : 객체들을 하나로 연결시켜준다.
line : 선을 그려주는 명령어
Mask 디자인
→ 상판에는 한…(생략)