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표면처리
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자료설명
1. 헐셀 시험법, 2. 와트욕, 3. 니켈 도금의 일상 관리, 4. 크롬도금 표준액, 5. 3가 크롬을 만들어 주는 방법, 6. 걸이, 7. 도금방지처리, 8. 양극처리 , , FileSize : 24K
목차/차례
- 1. 헐셀 시험법„. 와트욕…. 니켈 도금의 일상 관리†. 크롬도금 표준액‡. 3가 크롬을 만들어 주는 방법ˆ. 걸이‰. 도금방지처리Š. 양극처리
본문/내용
1. 헐셀 시험법
- 음극 시험판에 연속되는 넓은 범위의 전류 밀도에서 석출이 되도록 한 것이다.
● 석출상태 관리
- 화학 성분으로는 얻을수 없는 성분
- 화학 분석으로는 시간이 걸리는 성분
- 상당히 미량이면서 도금에 영향을 주는 성분
- 도금층의 형상과 잘래에 생길지도 모르는 액의 사고를 예측
● 가장 좋은 예는 불순물의 검출, 피트 발생, 광택제의 과 부족, 내부응력, 광택제 소모량 등 많은 것을 알아 낼수 있다.
- 음극 : 광택있는 평활한 구리판, 황동판 또는 철판을 사용
- 양극 : 용해성 양극판을 사용
| 📝 Regist Info |
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I D : camp***** Date : 2009-08-24 FileNo : 10956605 |
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