1.½ÇÇèÁ¦¸ñ : Photolithography¸¦ ÀÌ¿ëÇÑ patternÇü¼º
2.½ÇÇè¸ñÀû : Photolithography¿¡ »ç¿ëÇÏ´Â °¢ °øÁ¤ÀÇ ¿ø¸®¿Í °øÁ¤½Ã ÁÖÀÇÁ¡À» ¾Ë ¼ö ÀÖ´Ù.
3.½ÇÇè±â±¸, Àåºñ, Àç·á :
-Cr ÁõÂøµÈ ±âÆÇ
-Developer, Stripper, Cr etchant
4.Photolithography °øÁ¤ ¼ø¼
Cleaning -] PR coating -] Soft Baking -] Mask align & Exposure -] Develop -] Hard baking -] Cr etching -] Strip
5.½ÇÇè¹æ¹ý :
¨çCrÀÌ ÁõÂøµÈ ±âÆÇ CleaningÀ» ÇÑ´Ù.(Isopropyl alcohol¿¡ ¾à 10ºÐ °¡·® Ultra sonicó¸® -]DI water -]gas·Î drying)
¨èSpin coaterÀ§¿¡ ±âÆÇÀ» ¿Ã¸®°í Áø°ø ÀâÀº ÈÄ PRÀ» »Ñ¸®°í ÄÚÆÃÀ» ÇÑ´Ù.(500rpm : 10ÃÊ, 3000rpm : 30ÃÊ, 1000rpm :10ÃÊ)
¨éPRÀ» ±»È÷±â À§ÇØ Soft baking(110¡É) 15ºÐ Á¤µµ °ÇÁ¶
¨ê½º½º·Î ±×¸° PatternÀ» ±âÆÇÀ§¿¡ ¿Ã·Á³õ°í UV lignt¸¦ ³ë±¤(2.5ÃÊ)
¨ëPRÀ» Á¦°ÅÇϱâ À§ÇØ Developer¿¡ ±âÆÇÀ» ´ã±×°í, DI water·Î ¼¼Ã´
¨ì¼¼Ã´ÈÄ Hard baking(130¡É)¿¡¼ ¾à 10ºÐ Á¤µµ °ÇÁ¶
¨íCr etchant¿¡ dippingÇÏ¿© °æ°ú¸¦ º¸¸é¼ CrÀ» Á¦°Å
¨îÁ¦°Å ÈÄ PatternÀÌ µÈ ºÎºÐÀÇ PRÀ» Á¦°ÅÇϱâÀ§ÇØ Stripper¿¡ dippingÇÏ¿© Á¦°Å
6.½ÇÇè °á°ú ¹× °íÂû
-PRÀÇ Á¾·ù¡¦(»ý·«)
|