포토리소[photolithography] - 가공방법 및 적용분야에 대해서

_SLIDE_1_ 포토리소(Photolithography) 가공방법 및 적용분야에 대해서 _SLIDE_2_ 2 1. 개요 1.1 포토리소그래피(Photolithography)란? 원하는 회로설계를 유리판 위에 금속패턴으로 만들어 놓은 마스크(mask)라는 원판에 빛을 쬐어 생기는 그림자를 웨이퍼 상에 전사시켜 복사하는 기술 Fig. 1. The basic concept of Photolithography. _SLIDE_3_ 3 1.2 포토리소그래피 장비의 기본적 형태 - 광학계에 따른 방식 근접 노광방식(proximity printing) 투영 노광방식(projection printing) Fig. 2. Schematic diagram of photolithography systems. <물리학과 첨단기술 January/February 2xxx 특집 page 3> _SLIDE_4_ 4 2. 공정 과정 포토리소그래피 : Basic Steps in Chip Manufacturing Fig. 3. _SLIDE_5_ 5 2.1 Silicon with Oxide Layer _SLIDE_6_ 6 Coater 제조회사 -TEL(83%) -Dainippon(8%) -ASML(4%) KCTEC Spinless Coater PR사용량 1/10 Fig. 4 Coater EUVL Symposium, J. Yeo (2009). 2.1 Silicon with Oxide Layer - Coater _SLIDE_7_ 7 2.2 Expose Photoresist _SLIDE_8_ 8 Fig. 5 Scaner Hankook Industry co., LTD 2.2 Expose Photoresist - Scaner _SLIDE_9_ 9 2.3 Develop Photoresist _SLIDE_10_ 10 Fig. 6 Stepper Harry J. Levinson, Pri…
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