¢¸
  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (1 ÆäÀÌÁö)
    1

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (2 ÆäÀÌÁö)
    2

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (3 ÆäÀÌÁö)
    3

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (4 ÆäÀÌÁö)
    4

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (5 ÆäÀÌÁö)
    5

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (6 ÆäÀÌÁö)
    6

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (7 ÆäÀÌÁö)
    7

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (8 ÆäÀÌÁö)
    8

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (9 ÆäÀÌÁö)
    9

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (10 ÆäÀÌÁö)
    10

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (11 ÆäÀÌÁö)
    11


  • º» ¹®¼­ÀÇ
    ¹Ì¸®º¸±â´Â
    11 Pg ±îÁö¸¸
    °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù.
¢º
Ŭ¸¯ : ´õ Å©°Ôº¸±â
  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (1 ÆäÀÌÁö)
    1

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (2 ÆäÀÌÁö)
    2

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (3 ÆäÀÌÁö)
    3

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (4 ÆäÀÌÁö)
    4

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (5 ÆäÀÌÁö)
    5

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (6 ÆäÀÌÁö)
    6

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (7 ÆäÀÌÁö)
    7

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (8 ÆäÀÌÁö)
    8

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (9 ÆäÀÌÁö)
    9

  • ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)   (10 ÆäÀÌÁö)
    10



  • º» ¹®¼­ÀÇ
    (Å« À̹ÌÁö)
    ¹Ì¸®º¸±â´Â
    10 Page ±îÁö¸¸
    °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù.
´õºíŬ¸¯ : ´Ý±â
X ´Ý±â
µå·¡±× : Á¿ìÀ̵¿

ºÐ¼®È­ÇÐ ±â±âºÐ¼® Microfluidic Channel ½ÇÇè º¸°í¼­ (ÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî)

·¹Æ÷Æ® > ÀÚ¿¬°úÇÐ ÀÎ ¼â ¹Ù·Î°¡±âÀúÀå
Áñ°Üã±â
Å°º¸µå¸¦ ´­·¯ÁÖ¼¼¿ä
( Ctrl + D )
¸µÅ©º¹»ç
Ŭ¸³º¸µå¿¡ º¹»ç µÇ¾ú½À´Ï´Ù.
¿øÇÏ´Â °÷¿¡ ºÙÇô³Ö±â Çϼ¼¿ä
( Ctrl + V )
ÆÄÀÏ : Microfluid Channel Á¦ÀÛ ¹× Diffusion ½ÇÇè.pdf   [Size : 1 Mbyte ]
ºÐ·®   11 Page
°¡°Ý  1,000 ¿ø

Ä«Ä«¿À ID·Î
´Ù¿î ¹Þ±â
±¸±Û ID·Î
´Ù¿î ¹Þ±â
ÆäÀ̽ººÏ ID·Î
´Ù¿î ¹Þ±â


ÀÚ·á¼³¸í
ÀÚ¿¬°úÇкΠ¼ö¼®ÀÇ ½ÇÇè·¹Æ÷Æ® ½Ã¸®Áî¿¡ ¿À½Å °ÍÀ» ȯ¿µÇÕ´Ï´Ù.
¿©·¯°¡Áö ¼Ò½º¸¦ Ãѵ¿¿øÇÏ¿© ÇØ´ç ½ÇÇè¿¡ ´ëÇÑ ÀÌ·Ð ¹× ¹è°æÁö½ÄÀ» Á¶»çÇÏ°í, ½ÇÇè ¹æ¹ý°ú °á°ú, ÅäÀÇ¿¡ ÇØ´çÇÏ´Â ºÎºÐÀº ÃÖ´ëÇÑ Àü¹®Áö½ÄÀ» »ì¸®¸é¼­µµ ¿©·¯ºÐÀÌ ÀÌÇØÇϱâ ÁÁµµ·Ï »ó¼¼ÇÏ°í °¡µ¶¼º ÀÖ°Ô ÀÛ¼ºÇß´Ù°í ÀÚºÎÇÕ´Ï´Ù.
¿©·¯ºÐÀÇ ½ÇÇè°ú º¸°í¼­ ÀÛ¼º¿¡ Å« µµ¿òÀÌ µÇ±æ ¹Ù¶ø´Ï´Ù.
¸ñÂ÷/Â÷·Ê
0. ÃÊ·Ï

1. ¼­ ·Ð

1.1 Soft lithography
1.1.1 Printing
1.1.2 Molding
1.1.3 Transfer

1.2 Microfluidics

1.3 Plasma

1.4 Diffusion coefficient

1.4.2 Ficks law
1.4.3 Stokes-Einstein equation
2. ½ÇÇè¹æ¹ý
2.1 »ç¿ëÇÑ ½Ã¾à ¹× ±â±¸
2.2. ½ÇÇè ÀýÂ÷
3. °á°ú ¹× °íÂû
4. °á ·Ð
Reference
º»¹®/³»¿ë
1.1 Soft lithography
Microstructure³ª nanostructureÀ» ¸¸µé±â À§ÇÑ printing, moldingÀÇ °úÁ¤À» Æ÷ÇÔÇÏ´Â techniqueÀ¸·Î, ÀϹÝÀûÀ¸·Î printing, molding, transferÀÇ 3´Ü°è °úÁ¤À» °ÅÄ£´Ù.

1.1.1 Printing
Master¸¦ ¸¸µå´Â °úÁ¤ÀÌ´Ù. Photolithography, e-beam, micro-machining, photoresist µî ´Ù¾çÇÑ ¹æ¹ýÀ» ÅëÇØ ¿øÇÏ´Â ¸ð¾çÀ» °¡Áö´Â master¸¦ Á¦ÀÛÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù. ±× Áß photoresist´Â light-sensitive material·Î, ƯÁ¤ geometric patternÀ» °¡Áö´Â photomask¸¦ À§¿¡ µÎ°í ºû¿¡ expose ½ÃÄÑÁÖ¸é mask°¡ µ¤ÀÎ ºÎºÐÀº ±×´ë·Î ÀÖÀ¸³ª mask°¡ µ¤ÀÌÁö ¾ÊÀº ºÎºÐÀº ºû¿¡ ±×´ë·Î ³ëÃâµÇ¾î ÇØ´ç ºÎÀ§¸¸ ±¸Á¶Àû º¯ÇüÀÌ ¹ß»ýÇÑ´Ù. PhotoresistÀÇ Á¾·ù¿¡´Â photopolymeric, photodecomposing, photocrosslinking µîÀÌ ÀÖÀ¸¸ç, ±× Áß photocrosslinking photoresist´Â ºû¿¡ exposeµÇ¾úÀ» ¶§ chain °£ cross-linkingÀÌ ¹ß»ýÇÑ´Ù. SU-8ÀÌ ±× ´ëÇ¥ÀûÀÎ ¿¹·Î, ÀÌ´Â epoxy-based negative photoresistÀÌ´Ù. µû¶ó¼­ ºû¿¡ ³ëÃâµÈ ºÎºÐÀº cross-linked µÇ¾î developer¿¡ insolubleÇÏ°Ô ¹Ù²î°í, ³ª¸ÓÁö ºÎºÐÀº ±×´ë·Î solubleÇÏ¿© Á¦°ÅµÈ´Ù.

1.1.2 Molding
»ý¼ºµÈ master À§¿¡ polyu¡¦(»ý·«)
Âü°í¹®Çå
Culbertson Ch. T., Jacobson S. C., Ramsey J. M., Diffusion coefficient measurements in microfluidic devices(56), Talanta, p. 365 (2002)
Daniel C. Harris, Quantitative Chemical Analysis(8th ed.), W.H. Freeman and Company, pp. 550-551(2010)
R. Martinex-Duarte, SU-8 photolithography and its impact on microfluidics, CRC Press, pp 231-268(2011)
http://www.chemspider.com/FullSearch.aspx


ÀÚ·áÁ¤º¸
ID : sung******
Regist : 2021-06-17
Update : 2021-06-17
FileNo : 21061708

Àå¹Ù±¸´Ï

¿¬°ü°Ë»ö(#)
È­ÇÐ   È­ÇнÇÇè   ºÐ¼®È­ÇнÇÇè   ±â±âºÐ¼®   ±â±âºÐ¼®½ÇÇè   micr   luidic   luidics   ¹Ì¼¼À¯Ã¼°øÇÐ   Diffusion   È®»ê   ºÐ¼®È­ÇÐ   Micr   Channel   º¸°í¼­   ÇкΠ  ¼ö¼®   ½Ã¸®Áî   luid   Á¦ÀÛ  


ȸ»ç¼Ò°³ | ÀÌ¿ë¾à°ü | °³ÀÎÁ¤º¸Ãë±Þ¹æħ | °í°´¼¾ÅÍ ¤Ó olle@olleSoft.co.kr
¿Ã·¹¼ÒÇÁÆ® | »ç¾÷ÀÚ : 408-04-51642 ¤Ó ±¤ÁÖ±¤¿ª½Ã ±¤»ê±¸ ¹«Áø´ë·Î 326-6, 201È£ | äÈñÁØ | Åë½Å : ±¤»ê0561È£
Copyright¨Ï ¿Ã·¹¼ÒÇÁÆ® All rights reserved | Tel.070-8744-9518
ÀÌ¿ë¾à°ü | °³ÀÎÁ¤º¸Ãë±Þ¹æħ ¤Ó °í°´¼¾ÅÍ ¤Ó olle@olleSoft.co.kr
¿Ã·¹¼ÒÇÁÆ® | »ç¾÷ÀÚ : 408-04-51642 | Tel.070-8744-9518